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技術(shù)文章/ ARTICLE

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高能電子槍系統(tǒng)EGF-6104 EGPS-6104詳細資料

更新時間:2024-10-08      瀏覽次數(shù):103

高能電子槍系統(tǒng)EGF-6104 EGPS-6104詳細資料

EGF-6104..jpg

描述

均勻密度泛光梁

1 keV 至 50 keV

應用:

  • 航天器充電研究

  • Surface 充電研究

  • Beta 衰減模擬

  • 表面物理研究

  • 真空物理實驗

功能/選項:

  • 能量范圍:1 keV 至 50 keV

  • 光束電流達 200 μA

  • 高達 5 mA 的大電流選項

  • 廣角均勻光束

  • 發(fā)散控制

  • 可旋轉(zhuǎn) 2.75 英寸 CF 法蘭安裝

  • 法蘭多路復用器靈活性

  • 用戶可更換的點火裝置

  • 電腦 / 遙控器

  • 運行時可調(diào)節(jié)光束對準

  • 發(fā)散控制

  • 靜磁偏轉(zhuǎn)

  • 光束清洗

  • 自定義光圈

  • 雙網(wǎng)格脈沖

能量范圍:1 keV 至 50 keV
光束電流/光斑尺寸:
標準:10 nA 至 200 μA / 15 mm 至 50 mm
高電流:10 nA 至 5 mA / 15 mm 至 50 mm
安裝:2.75“ CF

Kimball Physics EGF-6104 電子槍及其配套的 EGPS-6104 電源旨在用于各種超高真空 (UHV) 充電研究、空間物理、真空物理、表面物理和核模擬應用。在最小的空間內(nèi)實現(xiàn)最大的靈活性;整個裝置通過一個標準的 2.75 英寸 CF 端口安裝。它是一個完整的子系統(tǒng),隨時可以連接和打開。

電子在負高電位下產(chǎn)生;因此,用戶的目標被設置為地電位。束流能量和束流都可以在很寬的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。該噴槍使用空間電荷受限的耐火金屬陰極來產(chǎn)生均勻的泛光光束,該設計允許產(chǎn)生低能量和極低電流的光束。光束發(fā)散度部分可通過電子控制,并且可以通過可選的孔徑進行機械限制。標準型號的光束電流為 200 μA。使用大電流選項,可以獲得高達 5 mA 的光束電流。EGF-6104 利用可選的 4 極磁偏轉(zhuǎn)來定位和提高束流均勻性。

重量5 磅
最大光束電流

5 毫安

最小束流

10 毫安

強調(diào)的搜索詞

電子槍系統(tǒng)

最大能量范圍

50keV

能量范圍 min

1keV

特色

電子槍系統(tǒng)資源

安裝

2&frac34CF

最大光斑尺寸

50 毫米

光斑尺寸 min

15 毫米

子名稱

電子槍系統(tǒng):1keV 至 50keV


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